安藤研究室の、2011年度(H23年度)の学位論文の題目です。

2020年度　2019年度　2018年度　2017年度　2016年度　2015年度
2014年度　2013年度　2012年度　2011年度　2010年度　2009年度
2008年度　2007年度　2006年度


2011.12.14 修了

論文博士

• 金 国大	L10系垂直磁化自由層を用いた強磁性トンネル接合に関する研究

2012.3.27 修了・卒業

博士論文

• 大平　祐介	Co2MnSi電極強磁性トンネル接合を用いたスピントランジスタに関する研究
  常木　澄人	Fe3O4薄膜のスピントロニクスデバイスへの応用に関する研究
  Husue Ara Begum	High quality multiferroics Bi (Fe0.9Co0.1) O3 thin films for magnetic tunnel junctions using r.f. sputtering method

修士論文

• 細田　真樹	L10-MnA1 垂直磁化膜の作製および強磁性トンネル接合への応用
  小沢　栄貴	界面修飾した Co2MnSi ホイスラー電極と MgO を用いたトンネル接合における磁気抵抗効果
  舟橋　聡	スピントロニクスデバイス応用に向けた 6H-SiC (0001) 基板上へのエピタキシャルグラフェンの作製
  横田　沙会子	高感度磁気センサー開発に向けたアレイ状強磁性トンネル接合素子におけるノイズ特性評価
  吉岡　慎司	Co2MnSi ホイスラー合金電極からSi へのスピン注入とその電気的検出

卒業論文

• 江口　真央	Co1-xFexPd 薄膜の垂直磁気特性
  李　昔炯	種々の垂直磁気異方性を有する L1o-FePd 薄膜の電界効果
  猿山　陽鏡	MnAl 垂直磁化膜を用いた強磁性トンネル接合の作製
  中野　貴文	過酷使用環境下における強磁性トンネル接合の伝導特性変動
  森廣　智之	プラズマ酸化による MgO 障壁層を用いた Co2MnSi 電極強磁性トンネル接合の作製